蚀刻

       一、蚀刻的定义
　　蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
        二、蚀刻的分类
　　蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
       三、 蚀刻的原理
　　通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护摸去处，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
　　最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，名牌及传统加工法难以加工之薄形工件等之加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
       四、蚀刻的排列顺序
　　承载与缓冲区——第一蚀刻室——采用高压水柱清除基板在该第一蚀刻室内被蚀刻后形成在其表面上副生成物的清洗室——第二蚀刻室——漂洗与干燥传送区。